Chemische Behandlung, Ätzen und Reinigen

Chemische Behandlung von Silicium, Ätzen vonSilicium, Reinigen vonSilicium

Wir verfügen über voll- und teilautomatisierte Ätzanlagen, in denen Materialien unterschiedlicher Größe und Morphologie chemisch behandelt werden können. Die Oberflächenreinigung oder das Lösen von Schichten erfolgt dabei in Batchprozessen oder kontinuierlich arbeitenden Linien.

  • Für Photovoltaikanwendungen: Chemische Oberflächenbehandlung und -reinigung von Siliciummaterialen über die gesamte photovoltaische Wertschöpfungskette: vom Grobgut bis zum Silizium-Feinkorn (ab 50 µm)
  • Für Photovoltaik- und Halbleiterindustrie: Polierätzen von Impfseelen,  Reinigung von       Warenträgern, z . Bsp. Säuberung von Platten, Carriern oder Schiffchen von der CVD-Abscheidung von Siliciumnitrid,  selektives Ätzen von Metallen oder metallischen       Verunreinigungen